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HJT板式等離子體增強化學氣相沉積設備

制備本征及摻雜非晶硅薄膜。

板式透明導電薄膜沉積設備(RPD/PAR/PVD)

板式物理鍍膜設備用于鍍著透明導電薄膜于襯底(硅片、玻璃片、柔性基板)。